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精密五金卷對(duì)卷蝕刻,卷對(duì)卷蝕刻生產(chǎn)線(xiàn)

大家好,今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題,就是關(guān)于精密五金卷對(duì)卷蝕刻的問(wèn)題,于是小編就整理了3個(gè)相關(guān)介紹精密五金卷對(duì)卷蝕刻的解答,讓我們一起看看吧。

蝕刻工藝的流程?

五金蝕刻工藝流程:

精密五金卷對(duì)卷蝕刻,卷對(duì)卷蝕刻生產(chǎn)線(xiàn)

1.前處理--徹底清除金屬蝕刻表面的油污及氧化膜噴油(涂油)--過(guò)爆光讓圖案在產(chǎn)品上形成感光(曝光)--通過(guò)顯影藥水將未爆光的地方?jīng)_走(顯影)--補(bǔ)油過(guò)程中產(chǎn)品的金屬部位不可有外露現(xiàn)象(補(bǔ)油)--將產(chǎn)品通過(guò)化學(xué)溶液的化學(xué)作用將產(chǎn)品經(jīng)過(guò)爆光顯影后外露的不銹鋼部位進(jìn)行腐蝕(蝕刻)--將多余的油漆清洗掉達(dá)到脫膜(清洗)--經(jīng)過(guò)蝕刻清洗工序完成后的產(chǎn)品即是我們想要的產(chǎn)品(包裝)

2.前處理--噴油或電泳--鐳射--補(bǔ)油--蝕刻--脫膜(清洗)--包裝

蝕刻工藝的具體過(guò)程是通過(guò)曝光顯影工序、將產(chǎn)品的圖形轉(zhuǎn)移到金屬鋼片上,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù),不要的區(qū)域除去保護(hù)膜裸露出金屬部分,再用化學(xué)藥水溶液起到腐蝕的作用,形成凹凸半刻或者鏤空成型的效果。   蝕刻工藝最早可用來(lái)制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量?jī)x器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

銅板蝕刻是什么?

銅腐蝕是一種選擇性的去除過(guò)程,用于在銅板上產(chǎn)生圖像。大多數(shù)蝕刻過(guò)程需要一塊覆蓋有非反應(yīng)性材料的金屬板,然后選擇性地將其去除。

銅板暴露在腐蝕性物質(zhì)中,腐蝕性物質(zhì)會(huì)去除少量的銅,而不會(huì)影響保護(hù)區(qū)域。過(guò)去,這是用蠟來(lái)完成的以及不同的酸?,F(xiàn)代銅蝕刻通常使用毒性較低的材料,如三氯化鐵,而不是酸和碳酸鈉來(lái)去除它?,F(xiàn)代蝕刻技術(shù)應(yīng)用于從藝術(shù)表現(xiàn)到印刷油墨再到在電路板上鋪設(shè)路徑的所有方面。銅最常見(jiàn)的工業(yè)用途蝕刻是指電路板的制作。

從蝕刻的表面上印刷出來(lái)的設(shè)計(jì)或圖畫(huà)也可以稱(chēng)為蝕刻版畫(huà)。這個(gè)名稱(chēng)來(lái)源于荷蘭語(yǔ)蝕刻,“侵蝕”或“吃”。蝕刻與相似流程雕刻的區(qū)別在于雕刻的線(xiàn)條是用銳利的工具而不是酸反應(yīng)做出來(lái)的。

蝕刻通常在拋光的銅板或鋅板上進(jìn)行;也可以使用鋼板、鐵板或玻璃板。蝕刻既是藝術(shù)形式,又是商業(yè)過(guò)程。這里只討論藝術(shù)形式。商業(yè)蝕刻見(jiàn)詞條印刷,小標(biāo)題凸版印刷與凹版印刷。

金屬蝕刻主要工藝流程是什么?

蝕刻 蝕刻制程是將電路布局移轉(zhuǎn)到芯片上之關(guān)鍵步驟,包括蝕刻及蝕刻后清洗兩部份,本所現(xiàn)階段以多層導(dǎo)線(xiàn)所需之蝕刻及清洗技術(shù)為重點(diǎn)。蝕刻技術(shù)開(kāi)發(fā)已完成符合0.15微米世代制程規(guī)格之0.2微米接觸窗蝕刻技術(shù)以及符合0.18微米世代制程規(guī)格(線(xiàn)寬/間距=0.22微米/0.23微米)之鋁導(dǎo)線(xiàn)蝕刻技術(shù);同時(shí)完成光阻硬化技術(shù),可提高光阻抗蝕刻性10%~20%;目前之技術(shù)重點(diǎn)在于雙嵌入結(jié)構(gòu)蝕刻技術(shù)及低介電常數(shù)材料蝕刻技術(shù),以搭配銅導(dǎo)線(xiàn)制程達(dá)成低電阻、低電容之目標(biāo)。蝕刻后清洗技術(shù)開(kāi)發(fā)已建立基本之氧化層及金屬層蝕刻后清洗能力,目前之技術(shù)重點(diǎn)在雙嵌入結(jié)構(gòu)蝕刻后清洗技術(shù),銅導(dǎo)線(xiàn)兼容之光阻去除技術(shù)、低介電常數(shù)材料兼容之光阻去除技術(shù)、銅污染去除技術(shù)等。   經(jīng)過(guò)黃光定義出我們所需要的電路圖,把不要的部份去除掉,此去除的 步驟就稱(chēng)之為蝕刻,因?yàn)樗孟竦窨蹋坏兑坏兜南魅ゲ槐匾槐匾哪拘?,完成作品,期間又利用酸液來(lái)腐蝕的,所以叫做「蝕刻區(qū)」。 濕式蝕刻: 酸堿溶液(化學(xué)方式) 選擇性高等向蝕刻 1. Through-put 高 2. 設(shè)備價(jià)格低 3. 溶液更新頻率<=>成本 4. 溶液本身的污染 優(yōu)點(diǎn) 1.(through-put)高 2.設(shè)備價(jià)格低 3.溶液更新頻率<->成本 4.溶液本身的污染 干式蝕刻: 電漿蝕刻(Plasma Etching),活性離子蝕刻(R I E)(物理方式) 選擇性低非等向蝕刻撞擊損傷(damages)à負(fù)面影響:晶格排列因撞擊而偏移 撞擊 -> 能量傳遞 -> 活化能降低 -> 反應(yīng)加速 蝕刻考慮因素: 1. 選擇性(Selectivity) 3. 蝕刻速率(Etching Rate) 2. 等向性(Isotropy) 4. 芯片損傷(Damags)

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