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北京精密溶氧儀價(jià)格,北京精密溶氧儀價(jià)格查詢(xún)

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ebis工藝原理?

EBIS工藝原理是利用高能量電子束在原子內(nèi)部打出電子,進(jìn)而形成離子。
這是一種高效率的離子源,其原理是在強(qiáng)磁場(chǎng)中使用低能離子在介質(zhì)中生成等離子體,然后使用高頻電磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)離子,將其加速并縱向儲(chǔ)存在長(zhǎng)、細(xì)的等離子體管道中,最終通過(guò)出口將離子釋放。
這種工藝的優(yōu)點(diǎn)在于能夠生產(chǎn)高電荷狀態(tài)的離子,并為高水平的物理實(shí)驗(yàn)提供離子束源。
此外,EBIS工藝能夠?yàn)檠芯空咛峁└鼫?zhǔn)確和更穩(wěn)定的離子束。
因?yàn)殡x子束緊密聚焦,并在束線上維持著穩(wěn)定的能量,這些特點(diǎn)使得EBIS工藝成為各種離子束分析應(yīng)用和實(shí)驗(yàn)的重要工具。

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EBIS(Electron Beam Ion Source)工藝是一種利用電子束激發(fā)離子的技術(shù),其原理是利用高能電子束轟擊低壓氣體中的原子或分子,使其電離并形成離子束。

這些離子束可以被用于各種應(yīng)用,例如離子注入技術(shù)、離子束刻蝕、離子束照射等。

EBIS工藝的優(yōu)勢(shì)在于其能夠產(chǎn)生高質(zhì)量的離子束,并且能夠控制離子的能量和方向,使其能夠被精確地定位到需要加工的表面上。

此外,EBIS工藝也具有較高的加工速度和較低的加工成本,因此在各種領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用,例如微電子學(xué)、光學(xué)器件制造、材料科學(xué)等領(lǐng)域。

ebis工藝是一種離子源技術(shù)中的一種ebis工藝的原理在于通過(guò)施加磁場(chǎng)將離子束聚焦到小區(qū)域,并對(duì)其加電使其獲得高速度進(jìn)入電子束,從而被電離,產(chǎn)生出帶正電荷的多元子離子束或源放射源在離子源技術(shù)領(lǐng)域中,ebis工藝可以用來(lái)制備高質(zhì)量的電離源,是非常重要和有效的技術(shù)手段之一

1、EBIS工藝原理:EBIS工藝是基于先進(jìn)的同步硝化反硝化脫氮理論為基礎(chǔ)的高效一體化生物處理系統(tǒng),兼顧了傳統(tǒng)AAO除磷脫氮的優(yōu)點(diǎn),同時(shí)它通過(guò)控制好氧區(qū)溶解氧(一般0.5mg/L左右),在好氧區(qū)內(nèi)不僅完成對(duì)有機(jī)物的徹底去除,更重要的是實(shí)現(xiàn)了硝化反硝化的同步進(jìn)行,且短程硝化反硝化占有相當(dāng)比例,該系統(tǒng)不僅簡(jiǎn)化了系統(tǒng)脫氮的運(yùn)行流程,節(jié)約了能耗,降低了對(duì)碳源的需求,提高了脫氮效率,也避免了由于硝態(tài)氮積累帶來(lái)的不利影響。

2. EBIS技術(shù)核心特點(diǎn):

低溶解氧,溶解氧≈0.5mg/L------能耗大大降低;

高污泥濃度,污泥濃度≈8000mg/L----高效率、低投資

3. EBIS創(chuàng)新技術(shù):

3.1微生物技術(shù)

3.2一體化結(jié)構(gòu)

3.3水力循環(huán)技術(shù)

EBIS工藝原理是什么? EBIS工藝是指經(jīng)過(guò)磁光離子分離(Magnetic Optical Ion Separation, MOIS) 制得的高密度低溫電子束(Electron Beam Ion Source, EBIS) 的一種離子注入技術(shù)
其利用電子束轟擊氣體或金屬靶,產(chǎn)生電離現(xiàn)象,將產(chǎn)生的離子從電場(chǎng)中加快,以高能量、高亮度的形式注入束流中
EBIS工藝技術(shù)是目前為止諾貝爾獎(jiǎng)金獲得者的Ion Trap技術(shù)之外最重要的離子注入技術(shù),它能夠穩(wěn)定,可靠地制備和注入錯(cuò)量高質(zhì)量的離子束,適用于各種領(lǐng)域,例如精密光學(xué)腔、束流冷卻和低溫離子陷阱等研究領(lǐng)域

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