大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于精密加工十四五規(guī)劃的問題，于是小編就整理了2個(gè)相關(guān)介紹精密加工十四五規(guī)劃的解答，讓我們一起看看吧。

綠色行業(yè)未來發(fā)展趨勢(shì)？

ESG (環(huán)境、社會(huì)、治理) 概念最早由聯(lián)合國(guó)環(huán)境規(guī)劃署在2004年提出，旨在推動(dòng)企業(yè)和金融機(jī)構(gòu)將ESG因素納入投資決策考量。受到綠色發(fā)展理念的影響，目前有越來越多的金融公司、投資者，甚至是監(jiān)管機(jī)構(gòu)都開始關(guān)注和部署ESG。

捷信在多年前就及時(shí)洞察綠色金融的發(fā)展動(dòng)向，主動(dòng)采取可持續(xù)發(fā)展政策，成立了ESG執(zhí)行委員會(huì)，在積極開展綠色運(yùn)營(yíng)、降低企業(yè)自身碳足跡的同時(shí)，為消費(fèi)者提供負(fù)責(zé)任、可靠、高質(zhì)效的綠色消費(fèi)金融服務(wù)，以普惠金融之力賦能“綠色消費(fèi)”的發(fā)展，為消費(fèi)者、環(huán)境和社會(huì)帶來更多效益。

以目前的投入，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還需要多久才能追上目前國(guó)際主流？

最近剛好寫了一些關(guān)于光刻機(jī)的文章，比較合適回答一下這個(gè)問題。

先說我的看法，假設(shè)我們以目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)為目標(biāo)，如果以舉國(guó)之力來做的話，10年內(nèi)我們可能有機(jī)會(huì)做出來，如果光靠目前的一些企業(yè)（例如SMEE）來做的話，很長(zhǎng)一段時(shí)間都沒有希望

原因如下:

第一: ASML從第一臺(tái)EUV概念機(jī)（2006年左右）到第一臺(tái)量產(chǎn)型EUV光刻機(jī)（2016年左右），就花了差不多10年。

第二:雖然相比15年之前，很多之前EUV相關(guān)的問題現(xiàn)在已經(jīng)有了解決方案，但是還有更多秘而不宣的技術(shù)秘密以及各種坑我們不得不去排雷和克服

第三:由于瓦森納協(xié)定的限制，不關(guān)EUV光刻機(jī)不能進(jìn)口，很多相關(guān)的零部件也是被嚴(yán)格管控的，這部分要突破封鎖需要時(shí)間

但是我們國(guó)家也有優(yōu)勢(shì)，具有全世界最強(qiáng)大的供應(yīng)鏈和生產(chǎn)能力，有世界上最多的工程師群體，如果再有強(qiáng)大而且系統(tǒng)的組織，我相信我們可以做到

大家看看下面光刻機(jī)的歷史發(fā)展，也基本是以10年為一個(gè)階段……

我認(rèn)為10年之內(nèi)是追不上的，至于10年之后，那就誰知道呢

一、目前的差距有多大

先上圖，目前ASML的技術(shù)是7nm/5nm，中國(guó)的技術(shù)是最后那一個(gè)，90nm，不要談什么國(guó)內(nèi)能產(chǎn)10nm光刻機(jī)，那都是假的，實(shí)驗(yàn)室的，離量產(chǎn)還10萬8千里呢。

而90nm的光刻機(jī)，ASML在10多年前就可以生產(chǎn)了，所以這個(gè)差距至少是10年以上。

二、差距體現(xiàn)在哪里

那么差距差距體現(xiàn)在哪里？光刻機(jī)的原理其實(shí)就是放大的單反，光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計(jì)好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形，其中最核心的就是鏡頭。

其次就是分辨率，光刻機(jī)的分辨率是光刻機(jī)最重要的技術(shù)指標(biāo)之一，決定了光刻機(jī)能夠被應(yīng)用于的工藝節(jié)點(diǎn)水平。

最后是套刻精度，也就是指前后兩道光刻工序之間彼此圖形的對(duì)準(zhǔn)精度，如果對(duì)準(zhǔn)的偏差過大，就會(huì)直接影響產(chǎn)品的良率。

智慧和創(chuàng)造力無窮，進(jìn)入世界先進(jìn)水平只是時(shí)間問題

光刻機(jī)作為科技界里面一個(gè)超級(jí)重要的設(shè)備，它的作用主要是在硅膠板上面刻制電路，手機(jī)的芯片上是最主要的隨著現(xiàn)代科技的進(jìn)步，電路是越來越來越來的緊密，芯片也是越來越小，芯片的大小就和光刻機(jī)息息相關(guān)，而目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)主要集群在荷蘭，荷蘭基本上是壟斷了整個(gè)世界（而且售價(jià)也是貴的要死，一臺(tái)最少都是幾億），但不過咱們國(guó)家的光刻機(jī)技術(shù)也是很不錯(cuò)的，在不久前，就曾宣布中國(guó)已經(jīng)突破了九納米的光刻機(jī)技術(shù)，而目前世界上最先進(jìn)的是七納米，所以我國(guó)也是在努力的發(fā)展中

因?yàn)樵谥圃煨酒^程中的過程是很嚴(yán)厲苛刻的，我國(guó)目前正大力發(fā)展這項(xiàng)領(lǐng)域，并且和西方發(fā)達(dá)國(guó)家的差距正在一步一步的變小，所以國(guó)家對(duì)于這個(gè)問題是非常重視的，早在2002年就成立的一個(gè)只針對(duì)研究光刻機(jī)技術(shù)上的微電子，那個(gè)時(shí)候沒有什么條件，我國(guó)生產(chǎn)了出90納米的芯片水平，中國(guó)有能力研發(fā)光刻機(jī)因?yàn)橹袊?guó)光刻機(jī)起步還比較晚，沒有發(fā)達(dá)國(guó)家的先進(jìn)水平也是正常的，隨著國(guó)家的投入和各種研發(fā)，早晚有一天，中國(guó)的品牌光刻機(jī)將會(huì)走向天下

據(jù)媒體報(bào)道，我國(guó)已經(jīng)成功的研發(fā)出了首臺(tái)可以利用紫外線光源實(shí)現(xiàn)22納米分辨率的光刻機(jī)了，這個(gè)是挺厲害的因?yàn)楹芏喟l(fā)達(dá)國(guó)家都沒有掌握，我們國(guó)家研發(fā)出來后也是相當(dāng)于打破了西方國(guó)家在這方面上的技術(shù)層次的封鎖

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按我的感覺，還差20年左右，我國(guó)才能夠生產(chǎn)7納米左右的光刻機(jī)。

因?yàn)楣饪虣C(jī)的極紫外光源、鏡頭、迅速移動(dòng)而達(dá)到納米級(jí)精度的裝載芯片的機(jī)器平臺(tái)，都是一座座大山，我們都得一一去翻越…

目前，我們國(guó)家才能夠生產(chǎn)90納米左右的光刻機(jī)。

光刻機(jī)和航空發(fā)動(dòng)機(jī)，都是兩個(gè)工業(yè)領(lǐng)域上面的皇冠上的明珠，中國(guó)已經(jīng)入門。經(jīng)過這次新冠肺炎疫情，氣運(yùn)在我們中國(guó)這一邊。

加油！中國(guó)…

很難追上主流。

ASML是獨(dú)角獸，而且是舉全世界頂尖龍頭企業(yè)之力，才引流主流光刻機(jī)技術(shù)。德國(guó)鏡頭，美國(guó)激光，都是專門配合ASML研發(fā)的。

中國(guó)要靠一己之力，攻克所有技術(shù)，難度很大。

人才是第一要素。中芯國(guó)際從三星挖來了梁孟松，一下子把量產(chǎn)技術(shù)提高到16nm，但是光刻機(jī)還是進(jìn)口的。

目前世界頂級(jí)集成電路生產(chǎn)商臺(tái)積電和三星，都造不了光刻機(jī)，但他們都是ASML的股東，所以都是頂級(jí)陣營(yíng)的。

希望能早日看到中國(guó)能造出光刻機(jī)的一天。

到此，以上就是小編對(duì)于精密加工十四五規(guī)劃的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于精密加工十四五規(guī)劃的2點(diǎn)解答對(duì)大家有用。