大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于高折射玻璃晶圓精密加工的問(wèn)題，于是小編就整理了4個(gè)相關(guān)介紹高折射玻璃晶圓精密加工的解答，讓我們一起看看吧。

浸沒(méi)式光刻機(jī)優(yōu)缺點(diǎn)？

浸沒(méi)式光刻機(jī)是采用折射和反射相結(jié)合的光路設(shè)計(jì)且曝光區(qū)域與光刻機(jī)透鏡之間充滿水的光刻設(shè)備。

浸沒(méi)式光刻機(jī)是采用折射和反射相結(jié)合的光路設(shè)計(jì)可以減少投影系統(tǒng)光學(xué)元件的數(shù)目，控制像差和熱效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)1.35的數(shù)值孔徑NA。浸沒(méi)式光刻機(jī)工作時(shí)并不是把晶圓完全浸沒(méi)在水中，而只是在曝光區(qū)域與光刻機(jī)透鏡之間充滿水。光刻機(jī)的曝光頭（exposure head）必須特殊設(shè)計(jì)，以保證：（1）水隨著光刻機(jī)在晶圓表面做步進(jìn)-掃描運(yùn)動(dòng)，沒(méi)有泄露；（2）水中沒(méi)有氣泡和顆粒。在193nm波長(zhǎng)下，水的折射率是1.44，可以實(shí)現(xiàn)NA大于1。

光刻機(jī)費(fèi)水嗎？

光刻機(jī)的工作期間需要用到水，尤其是冷卻系統(tǒng)比較費(fèi)水。

浸沒(méi)式光刻機(jī)是采用折射和反射相結(jié)合的光路設(shè)計(jì)且曝光區(qū)域與光刻機(jī)透鏡之間充滿水的光刻設(shè)備。浸沒(méi)式光刻機(jī)工作時(shí)并不是把晶圓完全浸沒(méi)在水中，而只是在曝光區(qū)域與光刻機(jī)透鏡之間充滿水。光刻機(jī)的曝光頭（exposure head）必須特殊設(shè)計(jì)，以保證：（1）水隨著光刻機(jī)在晶圓表面做步進(jìn)-掃描運(yùn)動(dòng)，沒(méi)有泄露；（2）水中沒(méi)有氣泡和顆粒。在193nm波長(zhǎng)下，水的折射率是1.44，可以實(shí)現(xiàn)NA大于1。

并且光刻機(jī)這種大型設(shè)備需要用到水冷機(jī)組來(lái)給設(shè)備降溫，所以需要消耗大量冷卻水。

euv和duv有什么區(qū)別？

1、制程范圍不同。

duv：基本上只能做到25nm，Intel憑借雙工作臺(tái)的模式做到了10nm，卻無(wú)法達(dá)到10nm以下。

euv：能滿足10nm以下的晶圓制造，并且還可以向5nm、3nm繼續(xù)延伸。

2、發(fā)光原理不同。

duv：光源為準(zhǔn)分子激光，光源的波長(zhǎng)能達(dá)到193納米。

euv：激光激發(fā)等離子來(lái)發(fā)射EUV光子，光源的波長(zhǎng)則為13.5納米。

3、光路系統(tǒng)不同。

duv：主要利用光的折射原理。其中，浸沒(méi)式光刻機(jī)會(huì)在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

euv：利用的光的反射原理，內(nèi)部必須為真空操作。

格羅方德計(jì)劃何時(shí)運(yùn)用ASML的極紫外光刻工藝？

去年的時(shí)候，從 AMD 剝離出來(lái)的芯片制造工廠格羅方德（GlobalFoundries）曾發(fā)表了一份聲明，表示 AMD 銳龍（Ryzen）和 Epyc 處理器、以及各式各樣 Radeon GPU，都是由其獨(dú)家代工的。

現(xiàn)在，隨著 14nm LPP 工藝的成熟，格羅方德又將長(zhǎng)遠(yuǎn)的目標(biāo)放在了紐約北部的 Fab 8 制造工廠上。

根據(jù)該公司的路線圖，7 納米 Leading Performance 制程（7LP）會(huì)是格羅方德沖刺下一個(gè)極限的重心，最終有望在大規(guī)模半導(dǎo)體產(chǎn)品制造上使用極紫外光刻技術(shù)（EUV）。

【格羅方德 Fab 8 工廠大門】

當(dāng)前市面上僅有 ASML 一家公司在摸索中提供設(shè)備，因此其這項(xiàng)技術(shù)的命運(yùn)取決于 ASML 能否克服跨紫外線和 X 射線界限時(shí)所帶來(lái)的干擾。

與當(dāng)前 193-mm 沉浸式光刻工具所使用的氬-氟化物準(zhǔn)分子激光不同，極紫外掃描必須借助一種全新的方法，才能在硅片上運(yùn)用下一代工藝所需的電磁能量。

據(jù)悉，格羅方德將對(duì)工廠內(nèi)部進(jìn)行重新分配，通過(guò)激光脈沖，將融化的錫液滴轉(zhuǎn)化為高能等離子，產(chǎn)生的光波長(zhǎng)僅為 13.5 納米。

傳統(tǒng)工藝使用玻璃制成的折射透鏡，但它對(duì)光性能的影響很大。EUV 掃描儀必須引導(dǎo)這種寶貴的能量來(lái)源，讓它通過(guò)反射鏡、順利地抵達(dá)晶圓片上 —— 而這需要在硬真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)。

到此，以上就是小編對(duì)于高折射玻璃晶圓精密加工的問(wèn)題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于高折射玻璃晶圓精密加工的4點(diǎn)解答對(duì)大家有用。